地质科技情报

2001, (04) 78-83

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Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究
STUDY ON SCANNING ELECTRON MICROSCOPE OF Nb,Mo,Ti,Ta,W DOPING SILICATED GRAPHITE

葛学贵,曹宏,黄少云,陈亦凡,靳化才,杨蜜纯

摘要(Abstract):

以硅粉的 1% ,2 %~ 10 % ( w B)将 Nb,Mo,Ti,Ta,W等 5种金属粉掺入硅粉中 ,用液硅渗透法 ( LSP)制备出系列掺杂硅化石墨样品。对这些样品抗折、抗拉强度测试结果表明 :Nb( 6 % ) -硅化石墨性能最优 ,抗拉强度提高了 2 0 %~ 2 7% ;Mo( 1% )、Mo( 5 % )掺杂效果次之 ;而 Ti( 7% )、Ta( 3% )、W( 7% )等的掺杂反使材料强度降低。扫描电子显微镜 ( SEM)分析显示 :Nb( 6 % )掺杂使抗拉强度增强的原因在于 ,新的铌与碳的间隙化合物相的生成 ,减小了硅化石墨显微结构的尺寸 ,且使材料外层及内核结构均匀、致密、统一 ,因而能有效分散应力集中 ,缓冲裂纹扩张 ,增大承载截面 ,从而提高材料力学性能。相反 Ti( 7% )、Ta( 3% )等掺杂后 ,尽管使材料外层结构致密 ,但内部结构疏松 ,晶粒、孔隙尺寸大小不一 ,形态各异 ,内、外结构极不统一 ,导致材料性能下降

关键词(KeyWords): Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂;硅化石墨;扫描电子显微镜(SEM)

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金资助项目 ( 4 9872 0 2 1);; 中国地质大学岩石矿物应用开发实验室基金资助项目

作者(Author): 葛学贵,曹宏,黄少云,陈亦凡,靳化才,杨蜜纯

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